Descripción
El libro presenta una revisión y análisis en profundidad del procesamiento de dispositivos de carburo de silicio. Los temas principales son: (1) Descubrimiento, propiedades y tecnología del carburo de silicio, (2) Procesamiento y aplicación de dieléctricos en dispositivos de carburo de silicio, (3) Dopaje por implantación iónica, (4) Grabado por plasma y (5) Fabricación de nanoestructuras de carburo de silicio y dispositivos relacionados. El libro también es adecuado como libro de texto complementario para cursos de posgrado.
Palabras clave: Carburo de silicio, SiC, Tecnología, Procesamiento, Dispositivos semiconductores, Propiedades de los materiales, Polimorfismo, Oxidación térmica, Recocido posterior a la oxidación, Pasivación de superficies, Deposición dieléctrica, Movilidad de efecto de campo, Implantación iónica, Recocido posterior a la implantación, Canalización, Rugosidad superficial, Grabado en seco, Grabado por plasma, Grabado iónico, Pulverización catódica, Grabado químico, Química del plasma, Micromasking, Microtrincheras, Nanocristal, Nanohilo, Nanotubo, Nanopilar, Sistemas nanoelectromecánicos (NEMS).
Autor: Konstantinos Zekentes
Editorial: Materials Research Forum LLC
Publicado: 15/03/2020
Páginas: 294
Tipo de encuadernación: Tapa blanda
Peso: 0.87lbs
Tamaño: 9.00h x 6.00w x 0.62d
ISBN13: 9781644900666
ISBN10: 1644900661
Categorías BISAC:
- Tecnología e Ingeniería | Ciencia de los Materiales | Materiales Electrónicos
- Tecnología e Ingeniería | Electrónica | Semiconductores
Este título no es retornable